Interfacial hole-flux regulation enables uniform slurry-less photoelectrochemical mechanical polishing of doping-inhomogeneous GaN

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标题	Interfacial hole-flux regulation enables uniform slurry-less photoelectrochemical mechanical polishing of doping-inhomogeneous GaN
网址	http://dx.doi.org/10.1016/j.jmatprotec.2026.119473
DOI	10.1016/j.jmatprotec.2026.119473 doi
其它	期刊：Journal of Materials Processing Technology 作者：Yuya Ohnishi; Rongyan Sun; Shigeyoshi Usami; Yuji Ohkubo; Masayuki Imanishi; et al 出版日期：2026-10-01
求助人	dsw 在 2026-11-02 18:08:27 发布自四川，悬赏 10 积分
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