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  Uniform broad-area deposition and patterning of SiO2 nanofilms by 172 nm photochemical conversion of liquid tetraethoxysilane layers at 300 K 相关领域
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期刊：APL Materials 作者：Jinhong Kim; Dane J. Sievers; Andrey E. Mironov; Sung‐Jin Park; J. G. Eden 出版日期：2024-01-01 |
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