Improve resolution with main chain scission resists for EUV lithography

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标题	Improve resolution with main chain scission resists for EUV lithography 相关领域抵抗极紫外光刻平版印刷术材料科学 X射线光刻浸没式光刻下一代光刻光刻电子束光刻六方晶系纳米光刻纳米技术光电子学光学结晶学化学制作物理替代医学图层（电子）病理医学
网址	https://doi.org/10.1117/12.2613445
DOI	10.1117/12.2613445 doi
其它	期刊：作者：Akihide Shirotori; Manabu Hoshino; Ashish Rathore; SinFu Yeh; Danilo . De Simone; et al 出版日期：2022-05-25
求助人	拼搏夜白在 2026-01-05 10:23:43 发布自河南，悬赏 20 积分
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