A 6.7-nm beyond EUV source as a future lithography source

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标题	A 6.7-nm beyond EUV source as a future lithography source 相关领域极紫外光刻极端紫外线材料科学激光器等离子体光电子学平版印刷术光学吸收（声学）辐照物理量子力学核物理学
网址	https://doi.org/10.1117/12.916351
DOI	10.1117/12.916351 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE 作者：Takamitsu Otsuka; Bowen Li; Colm O'Gorman; Thomas Cummins; Deirdre Kilbane; et al 出版日期：2012-03-29
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