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Highly Stable a-Si:H Films Deposited by Using Multi-Hollow Plasma Chemical Vapor Deposition
多空心等离子体化学气相沉积高稳定性a-Si：H薄膜
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化学气相沉积 等离子体 等离子体增强化学气相沉积 材料科学 硅 非晶硅 沉积（地质） 无定形固体 分析化学（期刊） 薄膜 化学工程 纳米技术 化学 光电子学 晶体硅 结晶学 色谱法 古生物学 物理 工程类 生物 量子力学 沉积物
网址
https://doi.org/10.1143/jjap.44.l1430
DOI
10.1143/jjap.44.l1430 doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Kazunori Koga; Toshihisa Inoue; Kouki Bando; Shinya Iwashita; Masaharu Shiratani; et al
出版日期：2005-11-01
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天天 在 2025-12-02 20:26:48 发布自广东，悬赏 10 积分
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