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  Review—Silicon Carbide Thin Film Technologies: Recent Advances in Processing, Properties, and Applications: Part II. PVD and Alternative (Non-PVD and Non-CVD) Deposition Techniques 综述-碳化硅薄膜技术：加工、性能和应用的最新进展：第二部分。PVD和替代（非PVD和非CVD）沉积技术
相关领域
物理气相沉积
材料科学
碳化硅
沉积（地质）
工程物理
纳米技术
薄膜
工程类
冶金
地质学
沉积物
古生物学
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期刊：ECS Journal of Solid State Science and Technology 作者：Alain E. Kaloyeros; Barry Arkles 出版日期：2024-04-01 |
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