标题 |
Design of “Low Stress” Post-CMP Cleaning Processes for Advanced Technology Nodes
先进技术节点CMP后“低应力”清洗工艺设计
相关领域
化学机械平面化
材料科学
纳米技术
接触力学
复合材料
结构工程
图层(电子)
工程类
有限元法
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DOI | |
其它 |
期刊:ECS transactions 作者:Kiana A. Cahue; Abigail L. Dudek; Mantas M. Miliauskas; Tatiana R. Cahue; Amy Mlynarski; et al 出版日期:2022-05-20 |
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