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 SiARC Residue Reduction Methods with Minimizing Profile Change for Mask Patterning 掩模图案化中轮廓变化最小的SiARC残差减少方法
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期刊： 作者：Xingxing. Xu; Hexin Zhou; Quanbao. Li; Jian Huang 出版日期：2023-06-26 |
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