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Effect of fluorine on boron diffusion in thin silicon dioxides and oxynitride
氟对硼在二氧化硅和氮氧化物中扩散的影响
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DOI
10.1063/1.359343 doi
其它 期刊:Journal of Applied Physics
作者:Takayuki Aoyama; Kunihiro Suzuki; Hiroko Tashiro; Y. Toda; Tatsuya Yamazaki; et al
出版日期:1995-01-01
求助人
Fighter 在 2025-08-29 14:36:09 发布自辽宁,悬赏 10 积分
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