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 Ferroelectric Enhancement in a TiN/Hf1–xZrxO2/W Device with Controlled Oxidation of the Bottom Electrode 相关领域
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期刊：ACS Applied Electronic Materials 作者：Santosh P. Chiniwar; Ya-Chen Hsieh; Ching-Hsiang Shih; Chih-Yu Teng; Jheng-Lin Yang; et al 出版日期：2024-02-14 |
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