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 Revised mathematical model for assessment of thermal characteristics developed in ultrafast pulse laser assisted nanoimprinting lithography on silicon based substrate surface 硅基衬底超快脉冲激光辅助纳米压印光刻热特性的修正数学模型
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期刊：Optical and Quantum Electronics 作者：Jaideep Dutta 出版日期：2023-11-23 |
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