Fabrication of high aspect ratio and tilted nanostructures using extreme ultraviolet and soft x-ray interference lithography

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标题	Fabrication of high aspect ratio and tilted nanostructures using extreme ultraviolet and soft x-ray interference lithography 极紫外和软x射线干涉光刻制备高宽高比倾斜纳米结构相关领域极紫外光刻干涉光刻 X射线光刻材料科学平版印刷术下一代光刻抵抗极端紫外线光学光电子学倍半硅氧烷氢光刻胶同步辐射纳米光刻制作纳米技术电子束光刻激光器物理图层（电子）替代医学病理医学
网址	https://doi.org/10.1116/6.0001089
DOI	10.1116/6.0001089 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：Nassir Mojarad; Dimitrios Kazazis; Yasin Ekinci 出版日期：2021-07-01
求助人	健健a 在 2023-12-08 14:56:13 发布自北京，悬赏 10 积分
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