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 Atomic layer etching of SiO2 with self-limiting behavior on the surface modification step using sequential exposure of HF and NH3 HF和NH3连续曝光表面改性步骤中具有自限性行为的SiO2原子层蚀刻
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Norikazu Miyoshi; Hiroyuki Kobayashi; Kazunori Shinoda; Masaru Kurihara; Kohei Kawamura; et al 出版日期：2021-12-20 |
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