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 Molecular simulation study on adhesions and deformations for Polymethyl Methacrylate (PMMA) resist in nanoimprint lithography 纳米压印光刻中聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）抗蚀剂粘附与变形的分子模拟研究
相关领域
材料科学
纳米压印光刻
抵抗
分子动力学
单层
聚甲基丙烯酸甲酯
复合材料
平版印刷术
纳米技术
变形（气象学）
粘附
甲基丙烯酸酯
聚合物
制作
图层（电子）
光电子学
计算化学
聚合
医学
化学
替代医学
病理
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| 其它 |
期刊：Journal of Mechanical Science and Technology 作者：Soon-kak Kwon; Young-Min Lee; Jaeshin Park; Seyoung Im 出版日期：2011-09-01 |
| 求助人 | |
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