| 标题 |
 Research of high-transmission phase-shift mask on critical dimension uniformity in ArF lithography ArF光刻中高透射率相移掩模对临界尺寸均匀性的研究
相关领域
极紫外光刻
临界尺寸
浸没式光刻
平版印刷术
薄脆饼
材料科学
光刻
多重图案
抵抗
下一代光刻
光学接近校正
计算光刻
计算机科学
光学
电子工程
光电子学
纳米技术
工程类
物理
电子束光刻
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊： 作者：Yilei Zeng; Yi Cheng; Peisheng Li; Teng Zhang; Zhong Zhang; et al 出版日期：2022-09-23 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
SYLH
卡卡西
nozero
昏睡的蟠桃
cdercder
科研助手6
sunyz
粗心的绾绾
子车茗
iNk
平常的毛豆
bc
蓝调爱科研
许甜甜鸭
chever
蛇虫鼠蚁
乐乐乐乐乐乐
失眠醉易
pcr163
冰魂
皖公网安备34019202002308
