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 Growth characteristics and properties of Ga2O3 films fabricated by atomic layer deposition technique 原子层沉积法制备Ga2O3薄膜的生长特性与性能
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期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Xiangtai Liu; Shaoqing Wang; Lang He; Yifan Jia; Lu Qin; et al 出版日期：2022-01-01 |
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