Effect of Reaction Mechanism on Precursor Exposure Time in Atomic Layer Deposition of Silicon Oxide and Silicon Nitride

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标题	Effect of Reaction Mechanism on Precursor Exposure Time in Atomic Layer Deposition of Silicon Oxide and Silicon Nitride
网址	https://doi.org/10.1021/am5021167
DOI	10.1021/am5021167 doi
其它	期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Ciaran Murray; Simon D. Elliott; Dennis M. Hausmann; Jon Henri; Adrien R. Lavoie 出版日期：2014-06-10
求助人	JINX 在 2026-09-08 11:24:18 发布自江苏，悬赏 10 积分
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