Plasma-enhanced atomic layer deposition of silicon nitride for front-end-of-line applications

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标题	Plasma-enhanced atomic layer deposition of silicon nitride for front-end-of-line applications
网址	https://doi.org/10.1116/6.0002424
DOI	10.1116/6.0002424 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Marco Lisker; Mamathamba Kalishettyhalli Mahadevaiah; Keerthi Dorai Swamy Reddy 出版日期：2023-07-01
求助人	mrp 在 2026-09-10 19:50:46 发布自湖北，悬赏 10 积分
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