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Study of selective isotropic etching effects of Si1-xGex in gate-all-around nanosheet transistor process
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DOI
10.1117/12.2658312 doi
其它 期刊:
作者:Qi Yan; Shao Hua; Junjie Li; Zhenzhen Kong; Xiaobin He; et al
出版日期:2023-05-01
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