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TrueMask® ILT MWCO: Full-chip curvilinear ILT in a day and full mask multi-beam and VSB writing in 12 hrs for 193i |
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10.1117/12.2554867
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| 其它 |
期刊: 作者:Linyong Pang; Jeffrey E. Ungar; Ali Bouaricha; Sha Lu; Michael Pomerantsev; et al 出版日期:2020-03-25 |
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