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标题
Impact of He and H relative depth distributions on the result of sequential He+ and H+ ion implantation and annealing in silicon
网址
http://dx.doi.org/10.1063/1.5012505
DOI
10.1063/1.5012505 doi
其它 期刊：Journal of Applied Physics
作者：N. Cherkashin; N. Daghbouj; G. Seine; A. Claverie
出版日期：2018-01-03
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zzf 在 2026-09-13 20:41:26 发布自北京，悬赏 10 积分
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