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Patterning Quantum Dots via Photolithography: A Review
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光刻 纳米技术 商业化 材料科学 量子点 平版印刷术 计算光刻 多重图案 光电子学 抵抗 政治学 法学 图层(电子)
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DOI
10.1002/adma.202300546 doi
其它 期刊:Advanced Materials
作者:Se Young Park; Seongjae Lee; Jeehye Yang; Moon Sung Kang
出版日期:2023-03-09
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刘佳辉 在 2026-07-13 09:08:11 发布自河北,悬赏 10 积分
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