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 High reflectance of reflective-type attenuated-phase-shifting masks for extreme ultraviolet lithography with high inspection contrast in deep ultraviolet regimes 相关领域
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena 作者：Hsuen‐Li Chen; H. C. Cheng; Tsung‐Shine Ko; Fu‐Hsiang Ko; T. C. Chu 出版日期：2004-11-01 |
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