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 Cerium contamination on silicon carbide optics during CMP: TOF-SIMS, XPS characterization, and ReaxFF MD simulation CMP过程中碳化硅光学器件上的铈污染：TOF-SIMS、XPS表征和ReaxFF MD模拟
相关领域
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期刊：Applied Surface Science 作者：Yongjie Li; Longxiang Li; Hongda Wei; Xingchang Li; Yiren Wang; et al 出版日期：2025-04-01 |
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