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Cerium contamination on silicon carbide optics during CMP: TOF-SIMS, XPS characterization, and ReaxFF MD simulation

碳化硅 X射线光电子能谱 铈 污染 材料科学 表征（材料科学） 硅 雷亚克夫 化学工程 分析化学（期刊） 纳米技术 化学 冶金 环境化学 分子动力学 计算化学 生态学 原子间势 工程类 生物
作者
Yongjie Li,Longxiang Li,Hongda Wei,Xingchang Li,Yiren Wang,Shi Pan,Xuejun Zhang
出处
期刊：Applied Surface Science [Elsevier BV]
日期：2025-04-01 卷期号：: 163390-163390
标识
DOI：10.1016/j.apsusc.2025.163390
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