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 Ion energy control in reactive ion etching using 1-MHz pulsed-DC square-wave-superimposed 100-MHz RF capacitively coupled plasma 1MHz脉冲直流方波叠加100MHz射频电容耦合等离子体反应离子刻蚀中的离子能量控制
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Akio Ui; Hisataka Hayashi; Itsuko Sakai; Takeshi Kaminatsui; Tokuhisa Ohiwa; et al 出版日期：2016-03-08 |
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