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标题
Vertical-Channel Fin-SiC (VC Fin-SiC) With Partially Highly Doped JFET for 3.3-kV Applications
用于3.3 kV应用的具有部分高掺杂JFET的垂直沟道Fin-SiC（VC Fin-SiC）
相关领域
JFET公司 鳍 兴奋剂 材料科学 碳化硅 光电子学 频道（广播） 电气工程 场效应晶体管 晶体管 工程类 复合材料 电压
网址
https://doi.org/10.1109/TED.2024.3421181
DOI
10.1109/TED.2024.3421181 doi
其它 期刊：IEEE Transactions on Electron Devices
作者：Tomoka Suematsu; Takeru Suto; Naoki Watanabe; Yuki Mori; Haruka Shimizu; et al
出版日期：2024
求助人
一定耀四年毕业啊 在 2025-12-05 13:34:10 发布自甘肃，悬赏 10 积分
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