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标题
Wet-Oxidation-Assisted Chemical Mechanical Polishing and High-Temperature Thermal Annealing for Low-Loss 4H-SiC Integrated Photonic Devices
低损耗4H-SiC集成光子器件的湿氧化辅助化学机械抛光和高温热退火
相关领域
材料科学 光子学 退火（玻璃） 抛光 化学机械平面化 表面粗糙度 碳化硅 光电子学 热氧化 表面光洁度 复合材料 硅
网址
https://www.mdpi.com/1996-1944/16/6/2324/pdf?version=1678785...
AI链接 mdpi.com mdpi.com nih.gov nih.gov nih.gov hal.science doaj.orgdoi.org
DOI
10.3390/ma16062324 doi
其它 期刊：Materials
作者：Xiaodong Shi; Yaoqin Lu; Didier Chaussende; Karsten Rottwitt; Haiyan Ou
出版日期：2023-03-14
求助人
manutd920223 在 2025-12-06 07:36:05 发布自中国台湾，悬赏 10 积分
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