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  Wet-Oxidation-Assisted Chemical Mechanical Polishing and High-Temperature Thermal Annealing for Low-Loss 4H-SiC Integrated Photonic Devices 低损耗4H-SiC集成光子器件的湿氧化辅助化学机械抛光和高温热退火
相关领域
材料科学
光子学
退火（玻璃）
抛光
化学机械平面化
表面粗糙度
碳化硅
光电子学
热氧化
表面光洁度
复合材料
硅
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| 其它 |
期刊：Materials 作者：Xiaodong Shi; Yaoqin Lu; Didier Chaussende; Karsten Rottwitt; Haiyan Ou 出版日期：2023-03-14 |
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