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 Self-assembled monolayer resist for atomic layer deposition of HfO2 and ZrO2 high-κ gate dielectrics 用于HfO2和ZrO2高κ栅介质原子层沉积的自组装单层抗蚀剂
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期刊：Applied Physics Letters 作者：Rong Chen; Hyoungsub Kim; Paul C. McIntyre; Stacey F. Bent 出版日期：2004-05-06 |
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