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标题
A Study on the Improvement of Etch Uniformity in an Ion Beam Etcher with a Magnetized Inductively Coupled Plasma Source
磁化电感耦合等离子体源提高离子束刻蚀均匀性的研究
相关领域
材料科学 感应耦合等离子体 等离子体 离子 焊剂（冶金） 基质（水族馆） 原子物理学 蚀刻（微加工） 磁场 导向中心 物理 纳米技术 地质学 冶金 量子力学 海洋学 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1134/s1063780x21030053
DOI
10.1134/s1063780x21030053 doi
其它 期刊：Plasma Physics Reports
作者：Hee‐Woon Cheong; J.-W. Kim; K. Kim; H. Lee
出版日期：2021-03-01
求助人
第三人称 在 2025-12-16 18:37:28 发布自山西，悬赏 10 积分
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