| 标题 |
Etching for 0.15-µm-Level Patterns with Low Microloading Effect Using Beam Plasmas Generated by Gas Puff Plasma Sources |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:Tatsuo Oomori; Masakazu Taki; Kazuyasu Nishikawa; Hiroki Ootera Hiroki Ootera 出版日期:2002-10-02 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)