The effective Work-Function of atomic layer deposited TaN thin film using TBTDET precursor and NH3 reactant gas

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标题	The effective Work-Function of atomic layer deposited TaN thin film using TBTDET precursor and NH3 reactant gas
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2021.152118
DOI	10.1016/j.apsusc.2021.152118 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Minhyuk Kim; Moonsuk Choi; Juhyeon Lee; Weinan Jin; Changhwan Choi 出版日期：2022
求助人	房西的水在 2026-06-01 14:04:42 发布自上海，悬赏 10 积分
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