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Ab initio modeling of oxygen-vacancy formation in doped-HfOx RRAM: Effects of oxide phases, stoichiometry, and dopant concentrations
掺杂HfOx RRAM中氧空位形成的从头计算模拟：氧化物相、化学计量和掺杂剂浓度的影响
相关领域
掺杂剂 化学计量学 从头算 电阻随机存取存储器 兴奋剂 材料科学 从头算量子化学方法 氧化物 氧气 空位缺陷 化学物理 无机化学 化学 物理化学 结晶学 光电子学 电极 分子 冶金 有机化学
网址
https://doi.org/10.1063/1.4926337
DOI
10.1063/1.4926337 doi
其它 期刊：Applied Physics Letters
作者：Liang Zhao; Sergiu Clima; Blanka Magyari-Köpe; M. Jurczak; Yoshio Nishi
出版日期：2015-07-06
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落寞的一斩 在 2025-08-31 11:59:26 发布自重庆，悬赏 10 积分
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