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![]() 用于逻辑节点小于3-nm的横向栅极全方位FET的极高选择性Si1-xGex膜湿法蚀刻剂通过过乙酸氧化剂产生高溶解氧
相关领域
材料科学
蚀刻(微加工)
选择性
光电子学
纳米技术
分析化学(期刊)
化学
图层(电子)
催化作用
有机化学
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其它 |
期刊:Chemical Engineering Journal 作者:Seung‐Jae Lee; Jieun Lee; Changjin Lee; Ji‐Hoon Kim; Ji-Hun Kim; et al 出版日期:2023-09-28 |
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