Confinement-dependent wet etching kinetics in Si nanochannels

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标题	Confinement-dependent wet etching kinetics in Si nanochannels 硅纳米沟道中约束相关湿法刻蚀动力学相关领域蚀刻（微加工）动力学氢氧化钾材料科学硅干法蚀刻反应离子刻蚀半导体各向同性腐蚀纳米技术化学工程光电子学图层（电子）物理量子力学工程类
网址	https://doi.org/10.1117/12.3010881
DOI	10.1117/12.3010881 doi
其它	期刊：作者：Yiding Zhong; Do Hyun Park; Siyang Xiao; Liangwei Zheng; Chuanhua Duan 出版日期：2024-04-09
求助人	W科研小白在 2025-08-30 19:40:23 发布，悬赏 20 积分
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