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 Optimization of the focus monitor mark in immersion lithography according to illumination type 浸没式光刻中聚焦监控标记的照明方式优化
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期刊：Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS 作者：Lisong Dong; Libin Zhang; Xiaojing Su; Jianfang He; Yayi Wei 出版日期：2017-08-24 |
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