| 标题 |
Screening of Deep Ultraviolet Plasmonic Materials for Enhanced High-Order Harmonic Generation in the Extreme Ultraviolet |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:ACS Applied Optical Materials 作者:Guo-Wang Chen; Jing Wang; Sheng-Sui Cai; F. Ming; Yan-Yu Shen; et al 出版日期:2026-10-13 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人或该文件上传人下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)