Measurement and modeling of time- and spatial-resolved wafer surface temperature in inductively coupled plasmas

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标题	Measurement and modeling of time- and spatial-resolved wafer surface temperature in inductively coupled plasmas
网址	https://doi.org/10.1116/1.2731369
DOI	10.1116/1.2731369 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者：C. C. Hsu; M. J. Titus; D. B. Graves 出版日期：2007
求助人	dydydy 在 2026-02-21 20:48:05 发布自德国，悬赏 10 积分
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