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  Universal approach for process optimization of chemically amplified photoresists in electron beam lithography 相关领域
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期刊：Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology 作者：Markus Greul; Astrit Shoshi; Jan Klikovits; Stephan Martens; Ulrich Hofmann; et al 出版日期：2024-05-20 |
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