Organoiodine Functionality Bearing Resists for Electron-Beam and Helium Ion Beam Lithography: Complex and Sub-16 nm Patterning

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标题	Organoiodine Functionality Bearing Resists for Electron-Beam and Helium Ion Beam Lithography: Complex and Sub-16 nm Patterning
网址	https://doi.org/10.1021/acsaelm.0c01120
DOI	10.1021/acsaelm.0c01120 doi
其它	期刊：ACS Applied Electronic Materials 作者：Midathala Yogesh; Mohamad. G. Moinuddin; Manvendra Chauhan; Satinder K. Sharma; Subrata Ghosh; Kenneth E. Gonsalves 出版日期：2021
求助人	樊珩在 2026-05-31 22:50:36 发布自上海，悬赏 10 积分
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