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 Role of NO in highly selective SiN/SiO2 and SiN/Si etching with NF3/O2 remote plasma: Experiment and simulation 相关领域
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Yuri Barsukov; Vladimir Volynets; Sangjun Lee; Gonjun Kim; Byoungsu Lee; et al 出版日期：2017-10-06 |
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