| 标题 |
Antimony surfactant for epitaxial growth of SiGe buffer layers at high deposition temperatures 相关领域
锑
外延
图层(电子)
沉积(地质)
材料科学
肺表面活性物质
缓冲器(光纤)
形态学(生物学)
化学工程
分析化学(期刊)
化学
纳米技术
冶金
色谱法
电信
古生物学
遗传学
生物
计算机科学
工程类
沉积物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Thin Solid Films 作者:P. Storck; Martin Vorderwestner; A.V. Kondratyev; Р.А. Талалаев; Art Amamchyan; et al 出版日期:2009-10-20 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)