| 标题 |
  Contaminant-free layer-by-layer annealing to improve the properties of HfO2/SiO2 optical films for the fs laser 无污染逐层退火改善fs激光器用HfO2/SiO2光学薄膜性能
相关领域
材料科学
退火（玻璃）
双层
溅射沉积
飞秒
溅射
光电子学
激光器
图层（电子）
光学
薄膜
复合材料
纳米技术
遗传学
物理
膜
生物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Optics Express 作者：Yuling Wu; Jingxia Yu; Xue Li; Xiangyu Wang; Min Tang; et al 出版日期：2024-07-24 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
不潮薯饼
MchemG
GingerF
嘻嘻哈哈
Nole
haijun
sanvva
LB
OK
yjh123
Kao
踏实的千柔
Lliu
Samuel
Rita
苏苏苏苏苏
Copyright
干净的琦
悦耳白山
Nacies
皖公网安备34019202002308
