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Theoretical study of relationships among resolution, line width roughness, and sensitivity of chemically amplified extreme ultraviolet resists with photodecomposable quenchers
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网址
https://doi.org/10.7567/jjap.55.116501
DOI
10.7567/jjap.55.116501 doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Takahiro Kozawa; Julius Joseph Santillan; Toshiro Itani
出版日期：2016-10-06
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huha 在 2025-10-27 11:12:45 发布自河北，悬赏 10 积分
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