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Formation and propagation mechanism of complex stacking fault in 180 μm thick 4H-SiC epitaxial layers
180 μ m厚4H-SiC外延层中复杂层错的形成与扩展机制
相关领域
外延 材料科学 叠加断层 碳化硅 堆积 位错 结晶学 光致发光 紫外线 光电子学 复合材料 图层(电子) 凝聚态物理 核磁共振 化学 物理
网址
DOI
10.1016/j.scriptamat.2023.115598 doi
求助人
宇宙的中心 在 2024-04-24 18:19:36 发布自江苏,悬赏 20 积分
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