Investigation of Ohmic contact to plasma-etched n-Al0.5Ga0.5N by surface treatment

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标题	Investigation of Ohmic contact to plasma-etched n-Al0.5Ga0.5N by surface treatment 等离子体刻蚀n-Al0.5Ga 0.5 N表面处理的欧姆接触研究相关领域欧姆接触等离子体材料科学蚀刻（微加工）分析化学（期刊）图层（电子）光电子学接受者等离子体刻蚀二极管化学纳米技术凝聚态物理物理量子力学色谱法
网址	https://doi.org/10.1088/1361-6641/ad3e26
DOI	10.1088/1361-6641/ad3e26 doi
其它	期刊：Semiconductor science and technology 作者：Shangru Zhou; Yu Ding; Zhe Zhuang; Yimeng Sang; Kai Chen; et al 出版日期：2024-04-12
求助人	tonyguo 在 2024-04-19 13:52:11 发布自浙江，悬赏 10 积分
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