Atomic-level flat polishing of polycrystalline diamond by combining plasma modification and chemical mechanical polishing

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标题	Atomic-level flat polishing of polycrystalline diamond by combining plasma modification and chemical mechanical polishing 等离子体改性与化学机械抛光相结合的聚晶金刚石原子级平面抛光相关领域抛光钻石材料科学化学机械平面化聚晶金刚石微晶等离子体冶金复合材料物理量子力学
网址	https://doi.org/10.1016/j.cirp.2025.03.024
DOI	10.1016/j.cirp.2025.03.024 doi
其它	期刊：CIRP Annals 作者：Song Yuan; Chi Fai Cheung; Alborz Shokrani; Zejin Zhan; Chunjin Wang 出版日期：2025-04-01
求助人	东东呀在 2025-04-30 08:45:42 发布自吉林，悬赏 10 积分
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