| 标题 |
 Defect mitigation in sub-20nm patterning with high-chi, silicon-containing block copolymers 高硅嵌段共聚物在亚20nm构图中的缺陷抑制
相关领域
材料科学
薄脆饼
硅
平版印刷术
共聚物
蚀刻（微加工）
反应离子刻蚀
纳米技术
抵抗
干法蚀刻
光电子学
化学工程
聚合物
复合材料
工程类
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
胡渊博
GingerF
tuanheqi
加缪
KiraShaw
唐泽雪穗
Yan
Apple
风清扬
bobobbb
GPTea
333
null
浮游
YifanWang
00111100
CES_SH
henry
Thien
yipmyonphu
pluto
馆长
Alex
3927456843
jyy
Criminology34
共享精神
傲慢与偏见zz
皖公网安备34019202002308
