| 标题 |
 Applications of a laser assisted defect detection system for chemical mechanical planarization (CMP) slurry development in rigid disk polishing 化学机械平坦化(CMP)浆料研制激光辅助缺陷检测系统在硬盘抛光中的应用
相关领域
化学机械平面化
材料科学
抛光
泥浆
激光器
复合材料
机械工程
光学
物理
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Measurement Science and Technology 作者：Toshi Kasai; C. D. Dowell; A. Somanchi 出版日期：2007-04-03 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
cdercder
eee
bc
遇上就这样吧
余味
YifanWang
dodo
路人
昏睡的蟠桃
核桃
斯寜
andrele
back you up
剑指东方是为谁
归尘
夜白
zyp
JTHe
Singularity
xiahou
皖公网安备34019202002308
