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Strain-Mediated Sn Incorporation and Segregation in Compositionally Graded Ge1–xSnx Epilayers Grown by MBE at Different Temperatures
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网址
https://doi.org/10.1021/acs.cgd.3c00494
AI链接 osti.gov osti.govdoi.org
DOI
10.1021/acs.cgd.3c00494 doi
其它 期刊：Crystal Growth & Design
作者：Nirosh M. Eldose; Hryhorii Stanchu; Subhashis Das; Ilias Bikmukhametov; Chen Li; et al
出版日期：2023-10-16
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老迟到的信封 在 2026-09-26 12:01:28 发布自福建，悬赏 10 积分
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